一般社団法人日本光学会

最近、光に関する研究分野においては、次世代の光源や材料の研究が急速な発展を遂げつつあり、その一方でデバイスから新しい活用法まで応用開発も幅広く進められています。これら最新の光研究の話題を分かりやすく紹介するとともに、産業、大学におけるこれらの動向や課題について将来展望を議論します。

主催：応用物理学会関西支部
日時：2011年11月18日（金）10:00～16:15
場所：島津製作所関西支社マルチホール
　　　（大阪市北区芝田1-1-4 阪急ターミナルビル14F，阪急梅田駅前）

プログラム

1. 1. 10：00～10：10「開会の挨拶」　中山喜萬　（応用物理学会関西支部長）
2. 2. 10：10～10：55「窒化物半導体による発光デバイスの最近の展開」
   船戸充、川上養一 (京都大学)
3. 3. 10：55～11：40「テラヘルツ波技術研究開発の現状と応用への展望」
   寳迫巌 (情報通信研究機構)
4. (11:40 ～　13:00 昼休み)
5. 4. 13：00～13：45「放射光XAFS分析の現状と産業応用」 本間徹生 (高輝度光科学研究センター)
6. 5. 13：45～14：30「Ｘ線自由電子レーザーの概要と超高時間分解Ｘ線散乱実験の展望」 田中義人 (理化学研究所)
7. (14：30～14：45 休憩)
8. 6. 14：45～15：30「CMOSイメージセンサの現状と今後の展開」 太田淳 (奈良先端科学技術大学院大学)
9. 7. 15：30～16：15「分子配向制御による有機EL素子の高性能化」 松島敏則、村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大学)

参加費：主催学会員・協賛学会員2,000円、一般5,000円、学生1,000円
定員：70名
参加申込方法：シンポジウム名、氏名、連絡先住所、FAX、e-mailを明記の上、e-mailまたはFAXで下記申込先まで。定員になり次第締切。